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22 mars 2018 Orsay (France)
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PRESENTATION Les journées thématiques RENATECH regroupent les personnels techniques des centrales de technologie de RENATECH et des centrales régionales. La première réunion thématique RENATECH de spécialité EPITAXIE s'est déroulée le 22 mars de 10h à 16h. Elle a eu lieu au C2N site d'Orsay au bâtiment 220, salle 44. Cette première réunion est consacrée à la reflexion sur la création d'un réseau de compétences dans la spécialité "épitaxie-croissance cristalline". Les techniques de croissances représentées seront MBE, MOCVD, CVD de III-V, Si, Ge, matériaux 2D... Ces journées sont ouvertes à tous les collègues techniques du réseau RENATECH : grandes centrales et centrales spécifiques de proximité.
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