PRESENTATION

Les journées thématiques RENATECH regroupent les personnels techniques des centrales de technologie RENATECH des premier et second cercles au niveau national.

La première réunion thématique RENATECH de spécialité EPITAXIE

se tiendra le 8 février de 10h à 16h.

Elle se déroulera au C2N site d'Orsay au bâtiment 220, salle 44.

Cette première réunion sur le thème Epitaxie sera consacrée à la reflexion sur la création d'un réseau de métier dans la spécialité croissance cristalline. Les techniques de croissances représentées seront MBE, MOCVD, CVD de III-V, Si, Ge, matériaux 2D...

Ces journées sont ouvertes à tous les collègues techniques du réseau RENATECH : grandes centrales et centrales spécifiques de proximité.

                                                   bat220

 

DÉROULEMENT

Le comité organisateur propose pour ces rencontres :

Des sessions orales où seront bienvenues des présentations portant sur :

-l’élaboration de matériaux cristallins par MBE, MOCVD etc

-techniques de croissance

-la caractérisation in-situ

-les développements techniques et instrumentaux autour de ces techniques

Une session poster pour que les différents acteurs puissent présenter leur centrale à l’ensemble des participants.

Une table ronde sera proposée pour discuter des attentes de chacun vis à vis de ce réseau et de son mode de fonctionnement.

 

INSCRIPTIONS

L'inscription à cette journée est gratuite et est ouverte aux membres du réseau Renatech et Renatech+

Deadline pour les inscriptions 1er février 2018.

Si vous souhaitez participer à cette réunion, merci de vous rendre à l'onglet  "Inscriptions".

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